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LFT1200C區(qū)域熔融純化設(shè)備 爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件。加熱元件與爐管平行，均勻地分布在爐管外，有效的保證了溫場(chǎng)的均勻性。

1200系列三溫區(qū)真空管式爐LFT1200C 采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。。進(jìn)口加熱電阻絲鑲嵌延長(zhǎng)爐體使用壽命，該設(shè)備設(shè)計(jì)為與手套箱對(duì)接使用，樣品可*處于相對(duì)對(duì)立的無(wú)水無(wú)氧環(huán)境

三溫區(qū)真空氣氛回轉(zhuǎn)爐CVD系統(tǒng) 是集三溫區(qū)真空回轉(zhuǎn)爐、三路質(zhì)量流量計(jì)系統(tǒng)及低真空機(jī)組而成一種動(dòng)態(tài)狀態(tài)下的化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)。三溫區(qū)開啟式真空回轉(zhuǎn)管式爐采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。

（含預(yù)熱器）雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng) 雙溫區(qū)滑軌爐可移動(dòng)并可實(shí)現(xiàn)快速升降溫；PLC控制5路質(zhì)子流量器，能夠精確控制系統(tǒng)的供氣；真空泵可實(shí)現(xiàn)對(duì)管式爐快速抽真空。CVD（化學(xué)氣象沉積系統(tǒng)）常用于表面材料生長(zhǎng)、沉積，是一款實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備

LVU-10低真空系統(tǒng) 其極限真空度為10-1Pa， 內(nèi)部安裝有雙級(jí)旋片機(jī)械泵BSV-10配套使用，其接口為KF25，并配有真空連接管路一套，電阻真空計(jì)ZDR-I和連接管道接頭等。

MFC-5Z多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng) 是一款多路質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng)，其質(zhì)量流量計(jì)和不銹鋼混氣罐都安裝在一個(gè)移動(dòng)柜里，移動(dòng)柜大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時(shí)，可將設(shè)備置于移動(dòng)柜上以節(jié)約空間。

2通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)MFC-2Z 是一款多路質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng)，其質(zhì)量流量計(jì)和不銹鋼混氣罐都安裝在一個(gè)移動(dòng)柜里，移動(dòng)柜大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時(shí)，可將設(shè)備置于移動(dòng)柜上以節(jié)約空間。

LFM1200C-1微型箱式爐 是以電阻絲為加熱元件、采用K型熱電偶和30段可編程溫度控制器。爐膛采用高質(zhì)量氧化鋁微晶體纖維材料，高溫度能達(dá)到1100℃，可連續(xù)工作1000℃，控溫精度±1℃；